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行业研究
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华大九天数字EDA全流程商业化落地,南大光电KrF光刻胶28nm节点进入量产,国产替代加速进入验证阶段。2026年上半年,中国EDA市场规模预计达100亿元,同比增长35%;国产光刻胶渗透率从8%提升至15%。本文从产业链位置切入,梳理核心标的的技术突破与商业化进展,供投资者参考。
ArF光刻胶国产化率不足2%、CMP抛光液约15-20%、EDA工具国内覆盖不足10%。这三个环节是中国半导体产业链中壁垒最高、替代难度最大的「卡脖子」节点。本文从产业链内部视角梳理2026年三大短板的技术现状、突破进度与可参考投资标的。